打破技术壁垒！新一代旗舰阴极发光系统 SPARC Spectral 3.0 重磅发布
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阴极发光（CL）解决方案
作为材料科学、半导体及纳米光子学领域“看得深、用得准”的微观表征利器，阴极发光（CL）技术长期以来却面临“上手门槛高、依赖专家经验、扫描耗时长”等应用瓶颈。
SPARC Spectral 3.0 的发布，正在改写这一局面。
在利物浦举办的第21届国际显微学大会（IMC21）上，荷兰表征设备巨头 Delmic 正式面向全球发布新一代旗舰级阴极发光系统——SPARC Spectral 3.0。它延续了 Delmic 标志性的模块化设计，同时在硬件速度、软件自动化与多模态关联能力上全面跃升——从“专家专属工具”走向“高通量、可自动化、更易上手”的分析平台。
01｜SPARC 3.0 核心优势：
赋能纳米级光学表征：更高通量、更强稳定性、更低使用门槛。
简化工作流——一键自动对准、自动光栅校准
大幅提升通量——高光谱扫描提速 2.3 倍
解锁关联表征——CL 与 PL 同台、FIB-SEM 无缝切换
面向未来可升级——模块化机身，支持现场加装新模块
SPARC Spectral 3.0 四大核心优势
02｜硬件亮点
SPARC SPECTRAL 3.0高光谱扫描提速 2.3 倍
CCD 硬件触发，128×128 像素扫描从 15.4 分钟缩短至 6.5 分钟。束流敏感样品可在降解前完成更高分辨率扫描。
ODEMIS 软件采集界面（CCD 硬件触发）
高光谱扫描提速：15.4 分钟 → 6.5 分钟
SPARC SPECTRAL 3.0
最多三路激光（405 / 532 / 633 nm）注入 SEM 腔体，同一真空环境下完成 CL + PL 纳米级关联。钙钛矿、有机半导体等敏感材料无需在多台仪器间转移样品。
SPARC SPECTRAL 3.0单色化光子计数 PMT
微秒级驻留时间 + 亚纳米级光谱选择性，适合 microLED 缺陷筛选与特定波长高通量定量 mapping。
SPARC SPECTRAL 3.04 mm 短工作距离反射镜
与 FIB-SEM 共心点兼容，CL 表征与 FIB 加工切换更顺畅；低电压 SEM 成像性能更好。
SPARC SPECTRAL 3.0机身与 Stagebox 重构
Stagebox 定位精度 1.2 μm，镜体收放速度提升至 6 mm/s（4 倍）；盲法兰设计支持现场升级 PL 模块、Lab Cube 等。
原位 PL 模块（FPLM）
03｜软件亮点（ODEMIS）
| 功能 | 价值 |
|---|---|
| 一键三维镜体自动对准 | ~5 分钟完成 X/Y/Z 对准，消除操作者差异 |
| 自动光栅校准 | 零级衍射峰居中 < 0.4 像素，跨会话数据一致 |
| 任意形状 & 多 ROI | 贴合锆石颗粒、圆形 microLED，支持过夜无人值守 |
| 智能拼接采集 | 大晶圆/地质 mount 自动 Z 高度补偿，焦点一致 |
| 采集配方 | 实验参数导出/导入，确保可重复性 |
ODEMIS 软件功能总览
| 配置 | 典型应用 |
|---|---|
| Spectral B | 地质、通用材料、平台共享（UV–NIR 宽谱） |
| Spectral U | 宽禁带材料、UVC LED、功率电子 |
| Spectral V | 纳米光子学、microLED、钙钛矿、二维材料 |
| Spectral R | 大晶圆/地质 mount 自动 Z 高度补偿，焦点一致 |
应用案例展示
Delmic 阴极发光技术系列产品
SPARC Spectral 3.0
SPARC Compact
JOLT
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芯无界表征科技致力于探索微观世界边界，聚焦先进电子显微与多维表征技术。通过创新仪器平台与专业解决方案，连接电子显微、原位分析、光电关联及智能化表征技术，为科研与产业创新提供无限可能。目前主要提供产品如下：荷兰 Delmic 阴极发光、捷克 NenoVision 电镜式原子力显微镜、美国 Waviks 原位激光加热与光激发系统等先进 SEM/TEM 附件。目前在上海设有 DEMO 体验中心，售后服务覆盖全国。
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